ALD

Picosun R-200系列ALD原子层沉积体统
  • 产品品牌:
  • 产品产地:
  • 应用领域:
  • 产品简介: Picosun R-200系列原子层沉积体统是一款多种能的原子层沉积平台,是用于研发的理想选择,适用于IC器件、MEMS器件、显示器、led、激光、3D物体如镜片、光学、珠宝、硬币、医疗植入物等数十种应用的研发

产品简介:

Picosun R-200系列原子层沉积体统是一款多种能的原子层沉积平台,是用于研发的理想选择,适用于IC器件、MEMS器件、显示器、led、激光、3D物体如镜片、光学、珠宝、硬币、医疗植入物等数十种应用的研发。

主要技术参数:

·适用2-8inch的单片晶圆;

·工艺温度:50-500℃,Advance型号配有等离子处理系统,工艺温度450℃(可选配特定chuck盘至650℃);

·适用镀膜种类:Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN,Pt,Ir等;

·手动上料,可选配机械臂,搬运机器人或Cassette-to-Cassette上料;

·前驱体种类:液体,固体,气体,等离子体,臭氧体等;